6.13 : S_N1 반응: 입체화학

뉴클레오필성 대체 반응에서, 제품의 입체적 결과, 즉, 반전 또는 구성의 유지, 치랄 기판에서 치환이 발생하는 경우 연구될 수 있다.

S_N2반응은 뉴클레오필이 백사이드로부터 기판을 직접 공격하기 때문에 입체적으로 특이적이며, 이는 변함없이 반전된 생성물을 초래한다.

반면,_SN1반응은 고정관념이 아니다. 이는 기판이 먼저 이온화되어 동일한 평면에 누워 있는 3개의 대체체와 함께 sp² 혼성 화된 환전 중간체를 생성하기 때문이다.

뉴클레오필은 동등한 가능성으로 양쪽에서 카보케이션에 접근합니다. 전면에서 공격이 제품의 구성 유지로 이어지는 반면, 뒷면 공격으로 구성이 반전됩니다.

주뇌 기판을 사용하는 경우, 뉴클레오필성 공격 모드에 관계없이 제품의 구성은 동일하게 유지됩니다.

기판이 치랄일 때 완전한 레이스가 예상되어 제품의 엔안티오머의 레이스메이트가 됩니다. 그러나, 더 일반적으로, 부분 적인 레이미즘 발생, 반전 된 제품의 내포성 과잉 발생.

이것에 대한 그럴듯한 설명은 기판의 이온화 단계에 있으며, 여기서 카보케이션과 떠나는 그룹은 느슨하게 연관되어 확산되기 전에 약 10 나노 초 동안 친밀한 이온 쌍을 형성합니다.

이 연합 중에 떠나는 그룹은 전방 공격으로부터 카보케이션을 부분적으로 보호합니다. 따라서, 뉴클레오필은 방해받지 않는 뒤쪽으로부터 탄소 센터를 공격하여 반전된 생성물을 초래한다.

이온 쌍이 완전히 해리된 후, 카보케이션은 양 끝에서 교체를 거치며 racemic 제품을 산출할 확률이 동일합니다. 대체 과정에서 반전과 레이미화가 모두 발생하기 때문에 반전된 제품의 순 초과가 얻어진다.