犠牲ナノ粒子の使用は、電子ビームリソグラフィにより作製したコンタクトホール内にショットノイズの影響を除去します
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February 12th, 2017
DOI :
February 12th, 2017
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Title
2:14
Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes
1:20
Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces
3:46
Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching
4:50
Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs
6:29
Conclusion
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