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L'utilizzo di nanoparticelle sacrificali per eliminare gli effetti del colpo-rumore in fori di contatto fabbricato da E-litografia a fascio

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07:47 min

February 12th, 2017

DOI :

10.3791/54551-v

February 12th, 2017


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Title

2:14

Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes

1:20

Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces

3:46

Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching

4:50

Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs

6:29

Conclusion

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