用于生物标志物检测的电解质门控石墨烯场效应晶体管的开发与功能化

该方法有效地去除了PMMA残留物，同时保留了潜在的石墨烯晶格。该功能装置在检测血清中的IgG抗体方面显示出一致的结果。此外，该协议还确保在实时，无标记的生物传感设备中实现CVD石墨烯。

这些步骤非常简单，只需最少的培训即可完成。该器件提供高选择性、高灵敏度和实时检测，优于其他生物传感器件，首先使用手术刀将铜基板上的石墨烯片切成两半。使用耐热胶带将石墨烯正方形的四个角固定在微调器垫圈上。

在石墨烯的方片上纺涂一层100至200纳米的PMMA 495K A4薄层，以每分钟500转的速度旋转10秒，然后每分钟旋转2，000次，持续50秒。然后，将样品在150摄氏度下烘烤五分钟。使用每分钟15标准立方厘米的速率流量，以30瓦特的氧等离子体去除石墨烯的背面，持续五分钟。

将等离子体处理的石墨烯正方形切割成一厘米宽和两厘米高的尺寸，用于器件制造。将预清洁的二氧化硅基材切割成小块，宽度约为四厘米，高度约为两厘米。使用石墨烯蚀刻剂氯化铁蚀刻铜而不稀释。

将样品漂浮在液体蚀刻剂上，铜面朝下，PMMA面朝上。铜蚀刻后，使用等离子体处理的基板缓慢提升石墨烯膜。将转移的石墨烯薄膜风干两小时，然后在热板上烘烤。

为了去除PMMA，首先用丙酮蒸气在70摄氏度处加热样品，方法是将样品保持在丙酮蒸气上方约两厘米处四分钟，PMMA面朝下。然后，将样品浸入丙酮中五分钟。用去离子水小心地洗涤样品。

最后，用氮气轻轻吹干样品。用丙酮，异丙醇和去离子水用转移的石墨烯洗涤基材。然后，将基材放在75摄氏度的热板上烘烤30分钟。

使用电子束蒸发器，在石墨烯样品上分别沉积5纳米和45纳米厚度的镍和金。使用掩模A应用第一个光刻工艺，以绘制电极图案。将AZ 5214E阳性光刻胶以每分钟2， 000转45秒在样品上旋转45秒，并在120摄氏度下固化样品一分钟。

将样品置于紫外线驱暴露系统中，并在每平方厘米200毫焦勒下暴露约10秒钟。用光刻胶显影剂AZ 300 MIF显影样品约两分钟，然后用去离子水冲洗。将样品浸入金蚀刻剂中以蚀刻金层10秒钟，用去离子水冲洗，然后浸入丙酮中10分钟除去剩余的光刻胶层。

使用丙酮，异丙醇和去离子水，洗涤样品，然后在75摄氏度的热板上烘烤30分钟。然后，使用掩模B应用第二次光刻工艺来图案化石墨烯通道。将样品浸入60摄氏度的镍蚀刻剂中，以蚀刻镍层10秒钟。

用去离子水冲洗，然后用氮气吹干。将样品置于等离子体中，并使用氧等离子体除去暴露的石墨烯。之后，通过浸入丙酮10分钟除去光刻胶层。

使用丙酮，IPA和去离子水洗涤样品，并在75摄氏度的热板上烘烤30分钟。使用掩模C应用第三次光刻工艺对钝化光刻胶层进行图案化，以保护基板上的底层石墨烯。使用与前面提到的相同的工艺参数，包括使用正光刻胶旋转，固化样品以及使用光刻胶显影剂进行显影。

之后，将样品浸入60摄氏度的镍蚀刻剂中10秒钟，以除去剩余的镍层，然后用去离子水冲洗并用氮气吹干。最后，将样品在120摄氏度的热板上烘烤30分钟。具有代表性的结果表明，该转移的CVD石墨烯采用拉曼和原子力显微镜表征。

拉曼图像的G峰和二维峰提供了有关转移的单层石墨烯的存在和质量的全面信息。该图显示了EEG FET生物传感器与氯化银参比电极中的标准银和用于容纳样品的聚二甲基硅氧烷孔集成在一起。此外，石墨烯通道的放大视图演示了源极到地，漏极和栅极到源极的连接。

PBASE是一种广泛使用的石墨烯功能化试剂，可以通过pi-pi相互作用在石墨烯表面吸收，而不会损害石墨烯的电性能。5-素氨基修饰的IgG适配体通过PBASE中反应性和羟基-6辛酰胺酯与IgG适配体5-素端的胺基之间的酰胺键键缀合。牛血清白蛋白孵育用于阻断用单强度PBS冲洗装置后剩余的未结合位点图显示了不同电解质条件下的IgG检测情况。

石墨烯的质量是该器件最佳性能的关键。因此，在等离子体蚀刻过程中，需要确保等离子体不会损害石墨烯的有用区域。此外，PMMA残留物需要完全清洁以获得干净的石墨烯表面。

该功能装置在检测人IgG抗体方面显示出一致的结果，因此该程序可以用作与其他纳米材料构建器件以研究界面相互作用和生物传感的参考。