E2에서도 관찰되는 E1 반응 메커니즘의 중요한 측면 중 하나는 위치화학이며, 여러 위치이성질체가 생성물로 얻어집니다. 논의된 예에서, 약염기로서 물의 존재는 대체보다 제거를 선호하여 두 개의 알켄을 생성합니다. 알켄의 안정성은 이중 결합을 가로지르는 알킬기의 수에 따라 증가한다는 점을 감안할 때 일반적으로 E1 반응은 자이체프 생성물로 이어집니다. 이는 호프만 생성물보다 더 치환되고 안정적이기 때문입니다. 또한, 자이체프 생성물 경로의 전이 상태 중간체는 에너지가 낮으므로 이 자이체프 생성물이 열역학적으로 안정하고 운동학적으로 선호된다는 것이 확인되었습니다.
E1 메커니즘은 베이스의 특성과 무관합니다. 따라서 E1 제거의 위치 선택성은 입체 장애 염기를 사용하여 조정할 수 없습니다. 이에 대한 예는 칼륨 tert-부톡사이드와 같은 부피가 큰 염기의 사용과 관계없이 자이체프 생성물의 형성입니다. 그러나 때때로 1,2-수소화물 이동이 발생할 수 있는 탄수화물 양이온 중간체의 E1 메커니즘으로 인해 예상했던 알켄이 1차 생성물로 얻어지지 않습니다. 이는 보다 안정적인 3차 탄수화물을 생성하여 대신에 4치환된 알켄을 생성합니다.
일반적으로 E1 반응은 Z 또는 시스 이성질체보다 E 또는 트랜스 알켄의 형성을 선호하므로 입체선택적입니다. 그러나 이는 E2 반응처럼 입체특이적이지 않으며 수소와 할로겐의 평면성을 고려하지 않습니다. 여기서는 최적의 π 결합을 형성하기 위해 평행해야 하는 양전하를 띤 탄소와 인접한 탄소-수소 σ 결합에서 인접한 빈 p 오비탈의 배향에 따라 달라집니다. E1 메커니즘의 중간 카보양이온은 (a) 입체적으로 변형된 덜 안정적인 신 형태와 (b) 부피가 큰 그룹이 더 멀리 떨어져 있는 보다 안정적인 반 형태로 두 가지 구성에서 이 요구 사항을 충족합니다. 결과적으로, 신 구조는 덜 안정한 Z-알켄의 부산물을 생성하고, 항 구조는 일차 생성물로서 입체적 방해가 적은 보다 안정적인 E-알켄을 생성합니다.
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