Contact ohmique fabrication utilisant une technique Focused Ion Beam-et caractérisation électrique pour la couche semi-conducteurs Nanostructures
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.
12.2K Views
•
08:12 min
•
December 5th, 2015
DOI :
December 5th, 2015
•Explorer plus de vidéos
Chapitres dans cette vidéo
0:05
Title
0:57
Exfoliation of MoSe2 Layer Nanocrystals
2:01
Dispersion of the Layer Nanocrystals onto the Device Template
2:42
Electrode Fabrication by Focused-ion Beam
6:14
Results: Characteristics of Ohmic Contacts
7:33
Conclusion
Vidéos Associées
09:45
Monocouche Contactez-dopage du silicium Surfaces et nanofils utilisant des composés organophosphorés
7.6K Views
06:43
Écrit et à basse température Caractérisation des nanostructures d'oxyde
9.9K Views
14:58
Silicium métal-oxyde-semiconducteur Quantum Dots pour le pompage mono-électronique
14.4K Views
12:35
Atomiquement traçable nanostructures Fabrication
8.7K Views
07:47
Utilisation de sacrificielles Nanoparticules pour éliminer les effets de Shot-bruit dans les trous de contact fabriquées par E-beam Lithography
7.2K Views
07:15
Une nouvelle méthode pour
9.1K Views
10:58
Fabrication de faisceau ionique focalisé de Lithium-ion à l’état solide axée sur les LiPON micro-batterie pour In Situ essais
10.1K Views
09:49
Microscopie électronique de transmission in situ avec biais et fabrication de barres transversales asymétriques basées sur la phase mixte a-VOx
4.0K Views
11:03
Caractérisation à l’échelle nanométrique des interfaces liquide-solide par couplage du fraisage par faisceau d’ions cryoconcentré avec la microscopie électronique à balayage et la spectroscopie
3.4K Views
13:49
Lithographie focalisée de faisceau d'ion à Etch Nano-architectures dans des microélectrodes
6.6K Views
À PROPOS DE JoVE
Copyright © 2025 MyJoVE Corporation. Tous droits réservés.