تم إجراء هذا البحث في شمال غرب المحيط الهادئ الوطنية المختبر (بننل)، الذي تديره معهد ميموريال Battelle للطاقة (وزارة) تحت "رقم العقد" دي-AC05-76RL01830. الكتاب الاعتراف بامتنان الدعم من "وزارة الخارجية الأميركية" من خلال "مفتاح التحقق أصول الصندوق" (الصندوق الخامس) تحت SIAA15AVCVPO10 الاتفاق المشترك بين الوكالات.

1-"إعداد مواد" <ol><li>وضع عدة رقائق السليكون تلبيتها، 2 إلى ناقل كوارتز للتنظيف وتحميل رقائق السليكون في البلازما النقش النظام. مضخة الدائرة فراغ لأسفل حتى تصل إلى مالا يقل عن 75 متور. قد يستغرق هذا بضع دقائق.</li>
	بدء تدفق الغاز 2 (30 sccm) س <li>والسماح للضغط من أجل تحقيق الاستقرار. تعيين وقت أحفر لمدة 15 دقيقة. حالما استقر ضغط الدائرة الشروع في البلازما ث 13.56 ميغاهرتز 250 التردد الراديوي (RF). 
	ملاحظة: هذه الخطوة ينظف رقائق السليكون العضوية أي يلوث وفونكتيوناليزيس على السطح مع الهيدروكسيلية (-أوه) مويتيس وبالتالي ضمان سطح ماء.</li>
	<li>أثناء الانتظار لتنظيف البلازما الخطوة إلى النهاية، إزالة nanospheres البوليستيرين تجارياً المشتراة (170 القطر شمال البحر الأبيض المتوسط، والجوامد 10%، 0.5% الصوديوم دوديسيل كبريتات) من الثلاجة (4 درجات مئوية). تسمح حاوية الحارة إلى درجة حرارة الغرفة.</li>
	<li>باختصار دوامة (1 دقيقة) و sonicate (35 كيلو هرتز، 1 دقيقة) nanospheres البوليسترين للتقليل من التكتل نانوسفيري.</li>
	<li>في قنينة زجاجية نظيفة، قياس 1.0 مل nanospheres البوليستيرين 170 في شمال البحر الأبيض المتوسط، وإضافة 1، 0 مل ح 2 س للحصول على تعليق غرواني المواد صلبة 5%-</li>
	<li>بعد 15 دقيقة، وقف تدفق س 2 والتنفيس عن فراغ الغرفة، وإزالة الرقائق الطازجة تنظيفها.</li>
</ol> 2. تدور-طلاء قالب Nanospheres البوليسترين <ol><li>قوفرات Unload السيليكون تنظيفها من تنميش البلازما. ثم تحميل رقاقة تلبيتها، 2 إلى زيادة ونقصان-المغطى. التأكد من أنه يتم توسيط بشكل صحيح وأن يا الدائري واضح من أي حطام. الشروع في الفراغ، وضمان أن يفر موصول بشكل أمن إلى المرحلة-</li>
	<li>تعيين المعلمات تدور تدور-المغطى. هذه المعلمات تختلف استناداً إلى حجم نانوسفيري. لإيجاد حل نانوسفيريس شمال البحر الأبيض المتوسط 170 5%، تعيين تدور-المغطى بعملية خطوة 1 مع وقت تدور من 1 دقيقة وسرعة 3000 دورة في الدقيقة، وتسارع 2,000 لفة في الدقيقة/س.</li>
	<li>استخدام المحاقن القابل للصرف، سحب ~ 1 مل تعليق غرواني من القنينة. جانبا القنينة. مرشح حقنه 5 ميكرومتر ووضعه في نهاية المحاقن. كساد المحاقن حتى معالجة تجميعية لتعليق مسح غيض. إزالة عامل التصفية المجاميع غير مرغوب فيها، والجسيمات التي يمكن أن تقلل إلى حد كبير نوعية الأفلام-</li>
	<li>إيداع ما يكفي تعليق مباشرة على مركز يفر أن تغطي حوالي 2/3 السطح. في محاولة لتقليل فقاعات نظراً لما يمكن أن يؤثر على جودة الفيلم. قم بإغلاق الغطاء المغطى تدور والبدء في الصحافة. أثناء هذه العملية، قد يكون من الممكن رؤية آثار التدخل رقيقة على السطح ليفر ك nanospheres تجميع ذاتي. هذا وسوف تختلف استناداً إلى قطر نانوسفيري.</li>
	إزالة <li>يفر المغلفة بالدوران بعد إلغاء تنشيط الفراغ. يمسح بوعاء وغطاء لتدور-المغطى لإزالة الزائدة نانوسفيريس.</li>
</ol> 3. الفيلم تقييم الجودة والإعداد للحفر <ol><li>بصريا تقييم جودة الفيلم ذاتيا المجمعة التي تبحث عن العيوب الملحوظة مثل الشرائط أو الثقوب التي قد تكون قد لحقت بالجسيمات أثناء عملية طلاء تدور.</li>
	<li>تقييم جودة الفيلم بوضع رقاقة تحت مجهر ضوئي. حدود الحبوب وبعض العيوب طبيعية. إذا كان يفر مساحات كبيرة غير المصقول أو مولتيلاييرس واضحة، من الضروري ضبط معلمات زيادة ونقصان للحصول على فيلم أكثر توحيدا. كما يمكن استخدام المجهر الإلكتروني لتقييم جودة الفيلم-</li>
	<li>تشغيل مصدر الضوء للمجهر والتركيز على سطح رقاقة السيليكون باستخدام هدفا X 20. تقييم النوعية في العديد من المواقع في جميع أنحاء يفر ضمان اتساق.</li>
	<li>جودة الفيلم النهائي التحقق من استخدام المسح الضوئي المجهر الإلكتروني (SEM) لتصور نانوسفيري التجميع الذاتي في النانو. فمن الممكن تقييم درجة مولتيلاييرس، والثقوب، والحبوب الحدود/العيوب عبر أجزاء صغيرة من يفر نسبيا بسرعة باستخدام هذا الأسلوب.</li>
	مكان <li>مرة واحدة قد حصل فيلم كافية، يفر إلى فرن (107 درجة مئوية) ل 2 دقيقة يصلب nanospheres الذاتي تجميعها. وهذا يساعد على تشجيع الانضمام إلى الركيزة وتعطي سطح نانوباتيرنيد أفضل بعد النقش.</li>
</ol> 4. النقش وترسب المعادن، ووصف بصري <ol><li>تحميل رقاقة الملدن في تنميش البلازما والشروع في المضخة أسفل عملية.</li>
	<li>مرة واحدة دائرة فراغ يصل إلى مالا يقل عن 75 متور، يبدأ تدفق الغاز 2 (20 sccm) س والانتظار للضغط من أجل تحقيق الاستقرار. الشروع في البلازما RF (75 ث) عن 165 س.</li>
	<li>بمجرد إكمال دورة البلازما RF، وقف تدفق س 2 وتنفيس الدائرة.</li>
	<li>الركيزة الآن محفورة وجاهزة لترسب المعادن. نقل العينة إلى المغطى الرش وإيداع رقيقة (20 نانومتر) طبقة من الذهب. يمكن استخدام متفاوتة ترسب الزوايا لتغيير الخصائص البصرية نانوكوبس. وفي هذه الحالة، قد أنجز ترسب المعادن الحادث عادة إلى الركيزة.</li>
	<li>بعد ترسب المعادن، الركيزة يمكن وصفها باستخدام التحليل الطيفي الضوئي. التركيز ميكروسبيكتروفوتوميتير على سطح الركازة الممعدنة وقياس أطياف الانعكاس. شمال البحر الأبيض المتوسط محفوراً 170 نانوسفيري المصفوفات، كان في 615 نانومتر.</li>
	<li>استخدام شريط لاصق حساسة للضغط، بلطف مكان الفيلم على اتصال مع الركازة. قد يكون من الضروري لإزالة أي فقاعات الهواء التي شكلت في واجهة استخدام الملقط.</li>
	<li>بمجرد الشريط على اتصال الركيزة، الشريط قد يكون فورا انشقت لإزالة نانوكوبس من على سطح الركازة. بلطف قشر مرة أخرى الشريط، والنتيجة فيلم مرنة وامتثالي للذهب نانوكوبس-</li>
</ol>

<ol>
	<li>Fang, Y., Sun, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanoplasmonic+waveguides:+towards+applications+in+integrated+nanophotonic+circuits.">Nanoplasmonic waveguides: towards applications in integrated nanophotonic circuits.</a> Light Sci Appl. 4, e294 (2015).</li><li>Li, J. F., Anema, J. R., Wandlowski, T., Tian, Z. Q. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Dielectric+shell+isolated+and+graphene+shell+isolated+nanoparticle+enhanced+Raman+spectroscopies+and+their+applications.">Dielectric shell isolated and graphene shell isolated nanoparticle enhanced Raman spectroscopies and their applications.</a> Chemical Society Reviews. 44 (23), 8399-8409 (2015).</li><li>Wang, L., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Large+Area+Plasmonic+Color+Palettes+with+Expanded+Gamut+Using+Colloidal+Self-Assembly.">Large Area Plasmonic Color Palettes with Expanded Gamut Using Colloidal Self-Assembly.</a> ACS Photonics. , (2016).</li><li>Taylor, A. B., Michaux, P., Mohsin, A. S. M., Chon, J. W. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electron-beam+lithography+of+plasmonic+nanorod+arrays+for+multilayered+optical+storage.">Electron-beam lithography of plasmonic nanorod arrays for multilayered optical storage.</a> Optics Express. 22 (11), 13234-13243 (2014).</li><li>Endo, H., Mochizuki, Y., Tamura, M., Kawai, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fabrication+and+Functionalization+of+Periodically+Aligned+Metallic+Nanocup+Arrays+Using+Colloidal+Lithography+with+a+Sinusoidally+Wrinkled+Substrate.">Fabrication and Functionalization of Periodically Aligned Metallic Nanocup Arrays Using Colloidal Lithography with a Sinusoidally Wrinkled Substrate.</a> Langmuir. 29 (48), 15058-15064 (2013).</li><li>Wang, H., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Symmetry+breaking+in+individual+plasmonic+nanoparticles.">Symmetry breaking in individual plasmonic nanoparticles.</a> Proceedings of the National Academy of Sciences. 103 (29), 10856-10860 (2006).</li><li>Wollet, L., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Plasmon+hybridization+in+stacked+metallic+nanocups.">Plasmon hybridization in stacked metallic nanocups.</a> Optical Materials Express. 2 (10), 1384-1390 (2012).</li><li>Duempelmann, L., Casari, D., Luu-Dinh, A., Gallinet, B., Novotny, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Color+Rendering+Plasmonic+Aluminum+Substrates+with+Angular+Symmetry+Breaking.">Color Rendering Plasmonic Aluminum Substrates with Angular Symmetry Breaking.</a> ACS Nano. 9 (12), 12383-12391 (2015).</li><li>King, N. S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Angle-+and+Spectral-Dependent+Light+Scattering+from+Plasmonic+Nanocups.">Angle- and Spectral-Dependent Light Scattering from Plasmonic Nanocups.</a> ACS Nano. 5 (9), 7254-7262 (2011).</li><li>Mirin, N. A., Halas, N. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Light-Bending+Nanoparticles.">Light-Bending Nanoparticles.</a> Nano Letters. 9 (3), 1255-1259 (2009).</li><li>Eggleston, M. S., Messer, K., Zhang, L., Yablonovitch, E., Wu, M. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Optical+antenna+enhanced+spontaneous+emission.">Optical antenna enhanced spontaneous emission.</a> Proceedings of the National Academy of Sciences. 112 (6), 1704-1709 (2015).</li><li>Bora, M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Plasmonic+black+metals+in+resonant+nanocavities.">Plasmonic black metals in resonant nanocavities.</a> Applied Physics Letters. 102 (25), 251105 (2013).</li><li>Akselrod, G. M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Efficient+Nanosecond+Photoluminescence+from+Infrared+PbS+Quantum+Dots+Coupled+to+Plasmonic+Nanoantennas.">Efficient Nanosecond Photoluminescence from Infrared PbS Quantum Dots Coupled to Plasmonic Nanoantennas.</a> ACS Photonics. , (2016).</li></ol>

الكتاب ليس لها علاقة بالكشف عن.

هذا البروتوكول يوضح تقنية منخفضة التكلفة وفعالة لاختلاق الدوري صفائف plasmonic نانوكوبس الذهب. هذا الأسلوب مفيد خاصة لأنها تتجنب مسلسل العمليات من أعلى إلى أسفل مثل الطباعة الحجرية شعاع الإلكترون أو الشعاع أيون مركزة الطحن. أسلوب عرض يظهر أن نانوسفيريس البوليمر المتاحة تجارياً يمكن تجميعها ...

ظهور plasmonics بالتزامن مع تحسين النانومترى وتقنيات التوليف أسفرت عن مجموعة متنوعة من تكنولوجيات مثيرة مثل الحيود الفرعية محدودة الدوائر وتعزيز الكشف عن المواد الكيميائية، والاستشعار البصري 1 ،،من23. في هذا البروتوكول، ونظهر تقنية قابلة للتحجيم ومنخفض التكلفة نسبيا قادرة على اختﻻق ركائز plasmonic نانوباتيرنيد باستخدام نانوسفيريس البوليمر المتاحة تجارياً وخطوة النقش يتبعه ترسب المعادن. خلافا لتقنيات أخرى لاختلاق ركائز نانوباتيرنيد، مثل الطباعة الحجرية شعاع الإلكترون4، هذا الأسلوب يمكن بسرعة وكفاءة إلى تغيير رقائق 300 ملم وخارجه مع الحد الأدنى من الجهد واستخدامات نقل خطوة لإنتاج مرنة و أفلام الامتثالي5.
منذ العصر الروماني، لقد عرفنا أن بعض المعادن مثل الذهب والفضة يمكن أن يكون الخصائص البصرية الرائعة عند وهي تنقسم ناعما. اليوم، ونحن نفهم أن هذه الجسيمات المعدنية يحمل تأثير تسمى "الرنين السطحية مأكل مثل الطحين المترجمة" () عند تناول أبعادها النانو. لسبر يماثل موجه دائمة فيها ضعيف منضم الإلكترونات الموجودة في المعدن يتذبذب متماسك عندما يضيء الضوء من بعض الترددات الجسيمات المعدنية. النانو متباين تتسم بأهمية خاصة نظراً للأصداء البصرية الفريدة التي يمكن أن تظهر نتيجة التماثل كسر6،،من78.
يمكن أن تثير الإضاءة هياكل نصف الصدفة (نانوكوب) مع الضوء ثنائي قطب كهربائي أو وسائط مأكل مثل الطحين ثنائي قطب مغناطيسي، اعتماداً على عوامل مثل زاوية ترسب المعادن، التوجه للركيزة فيما يتعلق بضوء الحادث، الاستقطاب في ضوء حادث9. غالباً ما اعتبرت نانوكوبس مماثلة لثلاثي الأبعاد سبليت-خاتم مرنانات، التي تردد صدى يمكن تقريبها10،LC-مذبذب11. تردد صدى لحجم نانوسفيريس البوليمرية المستخدمة هنا (170 شمال البحر الأبيض المتوسط)، الكمية من الذهب المودع (20 نانومتر)، ومعدلات أحفر تسفر عن ترددات الرنين التي تغطي المرئي والقرب من الأشعة تحت الحمراء.
يمكن قياس الخصائص البصرية نانوكوبس الذهب سواء في الإرسال أو الانعكاس، اعتماداً على الركازة المستخدمة لطلاء تدور. في البروتوكول المقدم، واخترنا استخدام رقائق السليكون تلبيتها، 2 كالركيزة وإجراء القياسات الانعكاس بعد ترسب المعادن. أجريت القياسات باستخدام مجهر بالإضافة إلى مطياف التشتت مع مصدر ضوء هالوجين. ونحن أيضا كان النجاح مع استخدام ركائز الزجاج، السماح لقياسات انتقال وانعكاس فور ترسب المعادن. وعلاوة على ذلك، يمكن بسهولة تغيير هذا الأسلوب ولا يقتصر على رقائق تلبيتها، 2. نظراً لتوافر عالية الجودة مونوديسبيرسي البوليمرية nanospheres التجاري على نطاق واسع، أنها واضحة لضبط الخصائص البصرية لهذه الهياكل بالبدء ببساطة مع نانوسفيريس الحجم بشكل مختلف.
في هذا البروتوكول، تقنية لاختلاق متباين من الذهب نصف الصدفة (أو نانوكوب) يتجلى النانو باستخدام أسلوب يسمى الطباعة الحجرية الغروية. الطباعة الحجرية الغروية يستخدم التجميع الذاتي للغاية مونوديسبيرسي نانوسفيري البوليمرية لنمط ركيزة التي يمكن معالجتها بزيادة في الركازة plasmonic بعد الرش طلاء طبقة رقيقة من الذهب بسرعة. وبالمثل، فمن الممكن لضبط تباين الركازة عن إمالة الركيزة عينة خلال ترسب المعادن. بنيات الناتجة حساسة للاستقطاب بسبب تباين نانوستروكتوري المشكلة. هنا، علينا أن نبدي واحد بعينه الحالة وإجراء توصيف الضوئية وانطلاقة لنقل الهياكل لفيلم شفافة ومرنة.

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" width="762">
	<tbody>
		<tr height="43">
			<td height="43" style="height:43px;width:204px;">Polystyrene microspheres</td>
			<td style="width:152px;">Bangs Laboratories, Inc.</td>
			<td style="width:209px;">PS02N</td>
			<td style="width:197px;">170 nm &#8211; 580 nm diameter</td>
		</tr>
		<tr height="43">
			<td height="43" style="height:43px;width:204px;">Silicon wafers</td>
			<td style="width:152px;">El-CAT, Inc.</td>
			<td style="width:209px;">3489</td>
			<td style="width:197px;">300 mm thick, one side polished [100]</td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Adhesive tape</td>
			<td style="width:152px;">3M</td>
			<td style="width:209px;">Scotch 600</td>
			<td style="width:197px;"></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Spin coater</td>
			<td style="width:152px;">Laurell</td>
			<td style="width:209px;">WS-650-23B</td>
			<td style="width:197px;"></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Plasma etcher</td>
			<td style="width:152px;">Nordson March&#160;</td>
			<td style="width:209px;">AP-600</td>
			<td style="width:197px;"></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Microspectrophotometer</td>
			<td style="width:152px;">CRAIC</td>
			<td style="width:209px;">380-PV</td>
			<td style="width:197px;"></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Sonicator</td>
			<td style="width:152px;">VWR</td>
			<td style="width:209px;">97043-932</td>
			<td style="width:197px;"></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Scintillation vials</td>
			<td style="width:152px;">Wheaton</td>
			<td style="width:209px;">986734</td>
			<td style="width:197px;"></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">5 um syringe filter</td>
			<td>Millex</td>
			<td>SLSV025LS</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Oxygen gas</td>
			<td>Oxarc</td>
			<td>PO249&#160;</td>
			<td>Industrial Grade 99.5% purity</td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Vaccum pump</td>
			<td>Kurt J. Lesker</td>
			<td>Edwards 28</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;">Disposable syringes</td>
			<td>Air Tite Products Co.</td>
			<td>14-817-25</td>
			<td>1 mL capacity</td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:204px;">Water</td>
			<td>Sigma-Aldrich</td>
			<td>W4502</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

fabrication of periodic gold nanocup arrays using colloidal lithography

في السنوات الأخيرة، وقد انفجرت ميدان plasmonics كما أثبتت الباحثون مثيرة التطبيقات المتصلة بالاستشعار الكيميائية والضوئية في تركيبة مع تقنيات النانومترى جديدة. مأكل مثل الطحين هو كم الكثافة تهمة التذبذب الذي يقرض النانوي المعادن مثل الذهب والفضة خصائص بصرية فريدة من نوعها. على وجه الخصوص، يحمل جسيمات نانوية الذهب والفضة ذبذبات كثافة التهمة الجماعية الأصداء المترجمة السطحية مأكل مثل الطحين على السطح من نانوحبيبات في الطيف المرئي. هنا، نحن نركز على تلفيق صفائف الدوري للنانو plasmonic متباين. هذه الهياكل نصف الصدفة (أو نانوكوب) يمكن أن يحمل الضوء الفريد إضافية-الانحناء والاستقطاب-تعتمد على الخصائص البصرية لا يمكن أن النانو الخواص البسيطة. باحثون مهتمون بتلفيق صفائف الدوري من نانوكوبس لمجموعة متنوعة من التطبيقات مثل الأجهزة البصرية المنخفضة التكلفة، رامان المزودة بسطح التشتت، والعبث إشارة. نقدم تقنية قابلة للتطوير استناداً إلى الغروية الطباعة الحجرية التي من الممكن بسهولة اختﻻق صفائف الدوري كبيرة من نانوكوبس استخدام طلاء تدور وتجميعها ذاتيا nanospheres البوليمر المتاحة تجارياً. وأجرى الميكروسكوب الإلكتروني والتحليل الطيفي الضوئي من المرئي بالقرب من الأشعة تحت الحمراء (قرب الأشعة تحت الحمراء) لتأكيد تلفيق نانوكوب ناجحة. نختتم بمظاهرة لنقل نانوكوبس إلى فيلم لاصقة مرنة، وامتثالي.

أعدت نانوكوبس الذهب باستخدام 170 نانومتر القطر nanospheres البوليستيرين. وبعد الصلب لمدة 2 دقيقة في 107 درجة مئوية والنقش مع 75 ث، 20 sccm س2 البلازما ل 165 اتسمت s، الفيلم الناتج باستخدام SEM (الشكل 1). لتقييم جودة الفيلم تدور مسبوك، يتعين بصرية مجهرية بالإضافة إلى ا?...

Watch this Scientific Journal Video about Fabrication of Periodic Gold Nanocup Arrays Using Colloidal Lithography at JoVE.com

Fabrication of Periodic Gold Nanocup Arrays Using Colloidal Lithography

ونحن تثبت تلفيق صفائف الدوري نانوكوب الذهب باستخدام تقنيات معدني الغروية ومناقشة أهمية الأفلام نانوبلاسمونيك.

تصنيع صفائف الدوري نانوكوب الذهب باستخدام الطباعة الحجرية غرواني

Within recent years, the field of plasmonics has exploded as researchers have demonstrated exciting applications related to chemical and optical sensing ...

fabrication-periodic-gold-nanocup-arrays-using-colloidal

Universidad de Cartagena UDEC

Research

JoVE Journal

Engineering

7.1K Views.  Energy and Environment Directorate. ونحن تثبت تلفيق صفائف الدوري نانوكوب الذهب باستخدام تقنيات معدني الغروية ومناقشة أهمية الأفلام نانوبلاسمونيك.

Video: Fabrication of Periodic Gold Nanocup Arrays Using Colloidal Lithography

Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates

Conducting polymers have attracted great attention since the discovery of high conductivity in doped polyacetylene in 19771. They offer the advantages of low weight, easy tailoring of properties and a wide spectrum of applications2,3. Due to sensitivity of conducting polymers to environmental conditions (e.g., air, oxygen, moisture, high temperature and chemical solutions), lithographic techniques present significant technical challenges when working with these materials4. For example, current photolithographic methods, such as ultra-violet (UV), are unsuitable for patterning the conducting polymers due to the involvement of wet and/or dry etching processes in these methods. In addition, current micro/nanosystems mainly have a planar form5,6. One layer of structures is built on the top surfaces of another layer of fabricated features. Multiple layers of these structures are stacked together to form numerous devices on a common substrate. The sidewall surfaces of the microstructures have not been used in constructing devices. On the other hand, sidewall patterns could be used, for example, to build 3-D circuits, modify fluidic channels and direct horizontal growth of nanowires and nanotubes.
A macropunching method has been applied in the manufacturing industry to create macropatterns in a sheet metal for over a hundred years. Motivated by this approach, we have developed a micropunching lithography method (MPL) to overcome the obstacles of patterning conducting polymers and generating sidewall patterns. Like the macropunching method, the MPL also includes two operations (Fig. 1): (i) cutting; and (ii) drawing. The "cutting" operation was applied to pattern three conducting polymers4, polypyrrole (PPy), Poly(3,4-ethylenedioxythiophen)-poly(4-styrenesulphonate) (PEDOT) and polyaniline (PANI). It was also employed to create Al microstructures7. The fabricated microstructures of conducting polymers have been used as humidity8, chemical8, and glucose sensors9. Combined microstructures of Al and conducting polymers have been employed to fabricate capacitors and various heterojunctions9,10,11. The "cutting" operation was also applied to generate submicron-patterns, such as 100- and 500-nm-wide PPy lines as well as 100-nm-wide Au wires. The "drawing" operation was employed for two applications: (i) produce Au sidewall patterns on high density polyethylene (HDPE) channels which could be used for building 3D microsystems12,13,14, and (ii) fabricate polydimethylsiloxane (PDMS) micropillars on HDPE substrates to increase the contact angle of the channel15.

A micropunching lithography approach is developed to generate micro- and submicron-patterns on top, sidewall and bottom surfaces of polymer substrates. It overcomes the obstacles of patterning conducting polymers and generating sidewall patterns. This method allows rapid fabrication of multiple features and is free of aggressive chemistry.

Micropunching الطباعة الحجرية لتوليد الصغرى، وأنماط Submicron، على ركائز بوليمر

Conducting polymers have attracted great attention since the discovery of high conductivity in doped polyacetylene in 19771. They offer the advantages of ...

Fabrication of Spatially Confined Complex Oxides

Complex materials such as high Tc superconductors, multiferroics, and colossal magnetoresistors have electronic and magnetic properties that arise from the inherent strong electron correlations that reside within them. These materials can also possess electronic phase separation in which regions of vastly different resistive and magnetic behavior can coexist within a single crystal alloy material. By reducing the scale of these materials to length scales at and below the inherent size of the electronic domains, novel behaviors can be exposed. Because of this and the fact that spin-charge-lattice-orbital order parameters each involve correlation lengths, spatially reducing these materials for transport measurements is a critical step in understanding the fundamental physics that drives complex behaviors. These materials also offer great potential to become the next generation of electronic devices 1-3. Thus, the fabrication of low dimensional nano- or micro-structures is extremely important to achieve new functionality. This involves multiple controllable processes from high quality thin film growth to accurate electronic property characterization. Here, we present fabrication protocols of high quality microstructures for complex oxide manganite devices. Detailed descriptions and required equipment of thin film growth, photo-lithography, and wire-bonding are presented.

We describe the use of pulsed laser deposition (PLD), photolithography and wire-bonding techniques to create micrometer scale complex oxides devices. The PLD is utilized to grow epitaxial thin films. Photolithography and wire-bonding techniques are introduced to create practical devices for measurement purposes.

تلفيق من أكاسيد مجمع المحصورة مكانيا

Complex materials such as high Tc superconductors, multiferroics, and colossal magnetoresistors have electronic and magnetic properties that arise from ...

Fabrication and Testing of Microfluidic Optomechanical Oscillators

Cavity optomechanics experiments that parametrically couple the phonon modes and photon modes have been investigated in various optical systems including microresonators. However, because of the increased acoustic radiative losses during direct liquid immersion of optomechanical devices, almost all published optomechanical experiments have been performed in solid phase. This paper discusses a recently introduced hollow microfluidic optomechanical resonator. Detailed methodology is provided to fabricate these ultra-high-Q microfluidic resonators, perform optomechanical testing, and measure radiation pressure-driven breathing mode and SBS-driven whispering gallery mode parametric vibrations. By confining liquids inside the capillary resonator, high mechanical- and optical- quality factors are simultaneously maintained.

Parametric optomechanical excitations have recently been experimentally demonstrated in microfluidic optomechanical resonators by means of optical radiation pressure and stimulated Brillouin scattering. This paper describes the fabrication of these microfluidic resonators along with methodologies for generating and verifying optomechanical oscillations.

تصنيع واختبار ميكروفلويديك الميكانيكية المذبذبات

Cavity optomechanics experiments that parametrically couple the phonon modes and photon modes have been investigated in various optical systems including ...

Atomically Traceable Nanostructure Fabrication

Reducing the scale of etched nanostructures below the 10 nm range eventually will require an atomic scale understanding of the entire fabrication process being used in order to maintain exquisite control over both feature size and feature density. Here, we demonstrate a method for tracking atomically resolved and controlled structures from initial template definition through final nanostructure metrology, opening up a pathway for top-down atomic control over nanofabrication. Hydrogen depassivation lithography is the first step of the nanoscale fabrication process followed by selective atomic layer deposition of up to 2.8 nm of titania to make a nanoscale etch mask. Contrast with the background is shown, indicating different mechanisms for growth on the desired patterns and on the H passivated background. The patterns are then transferred into the bulk using reactive ion etching to form 20 nm tall nanostructures with linewidths down to ~6 nm. To illustrate the limitations of this process, arrays of holes and lines are fabricated. The various nanofabrication process steps are performed at disparate locations, so process integration is discussed. Related issues are discussed including using fiducial marks for finding nanostructures on a macroscopic sample and protecting the chemically reactive patterned Si(100)-H surface against degradation due to atmospheric exposure.

We report a protocol for combining the atomic metrology of the Scanning Tunneling Microscope for surface patterning with selective Atomic Layer Deposition and Reactive Ion Etching. Using a robust process involving numerous atmospheric exposures and transport, 3D nanostructures with atomic metrology are fabricated.

يمكن عزوها بالذرة البنية النانوية تلفيق

Reducing the scale of etched nanostructures below the 10 nm range eventually will require an atomic scale understanding of the entire fabrication process ...

Indirect Fabrication of Lattice Metals with Thin Sections Using Centrifugal Casting

One of the typical methods to manufacture 3D lattice metals is the direct-metal additive manufacturing (AM) process such as Selective Laser Melting (SLM) and Electron Beam Melting (EBM). In spite of its potential processing capability, the direct AM method has several disadvantages such as high cost, poor surface finish of final products, limitation in material selection, high thermal stress, and anisotropic properties of parts. We propose a cost-effective method to manufacture 3D lattice metals. The objective of this study is to provide a detailed protocol on fabrication of 3D lattice metals having a complex shape and a thin wall thickness; e.g., octet truss made of Al and Cu alloys having a unit cell length of 5 mm and a cell wall thickness of 0.5 mm. An overall experimental procedure is divided into eight sections: (a) 3D printing of sacrificial patterns (b) melt-out of support materials (c) removal of residue of support materials (d) pattern assembly (e) investment (f) burn-out of sacrificial patterns (g) centrifugal casting (h) post-processing for final products. The suggested indirect AM technique provides the potential to manufacture ultra-lightweight lattice metals; e.g., lattice structures with Al alloys. It appears that the process parameters should be properly controlled depending on materials and lattice geometry, observing the final products of octet truss metals by the indirect AM technique.

An indirect additive manufacturing method combining a 3D printing of polymers with a centrifugal casting is outlined for manufacturing 3D octet truss metals (Al and Cu alloys) having a unit cell length of 5 mm with a wall thickness of 0.5 mm.

تلفيق غير المباشر للشعرية المعادن مع أقسام رقيقة عن طريق صب الطرد المركزي

One of the typical methods to manufacture 3D lattice metals is the direct-metal additive manufacturing (AM) process such as Selective Laser Melting (SLM) ...

Fabrication and Characterization of Superconducting Resonators

Superconducting microwave resonators are of interest for a wide range of applications, including for their use as microwave kinetic inductance detectors (MKIDs) for the detection of faint astrophysical signatures, as well as for quantum computing applications and materials characterization. In this paper, procedures are presented for the fabrication and characterization of thin-film superconducting microwave resonators. The fabrication methodology allows for the realization of superconducting transmission-line resonators with features on both sides of an atomically smooth single-crystal silicon dielectric. This work describes the procedure for the installation of resonator devices into a cryogenic microwave testbed and for cool-down below the superconducting transition temperature. The set-up of the cryogenic microwave testbed allows one to do careful measurements of the complex microwave transmission of these resonator devices, enabling the extraction of the properties of the superconducting lines and dielectric substrate (e.g., internal quality factors, loss and kinetic inductance fractions), which are important for device design and performance.

Superconducting microwave resonators are of interest for detection of light, quantum computing applications and materials characterization. This work presents a detailed procedure for fabrication and characterization of superconducting microwave resonator scattering parameters.

تصنيع وتوصيف الموصلية الرنين

Superconducting microwave resonators are of interest for a wide range of applications, including for their use as microwave kinetic inductance detectors ...

Colloidal Synthesis of Nanopatch Antennas for Applications in Plasmonics and Nanophotonics

We present a method for colloidal synthesis of silver nanocubes and the use of these in combination with a smooth gold film, to fabricate plasmonic nanoscale patch antennas. This includes a detailed procedure for the fabrication of thin films with a well-controlled thickness over macroscopic areas using layer-by-layer deposition of polyelectrolyte polymers, namely poly(allylamine) hydrochloride (PAH) and polystyrene sulfonate (PSS). These polyelectrolyte spacer layers serve as a dielectric gap in between silver nanocubes and a gold film. By controlling the size of the nanocubes or the gap thickness, the plasmon resonance can be tuned from about 500 nm to 700 nm. Next, we demonstrate how to incorporate organic sulfo-cyanine5 carboxylic acid (Cy5) dye molecules into the dielectric polymer gap region of the nanopatch antennas. Finally, we show greatly enhanced fluorescence of the Cy5 dyes by spectrally matching the plasmon resonance with the excitation energy and the Cy5 absorption peak. The method presented here enables the fabrication of plasmonic nanopatch antennas with well-controlled dimensions utilizing colloidal synthesis and a layer-by-layer dip-coating process with the potential for low cost and large-scale production. These nanopatch antennas hold great promise for practical applications, for example in sensing, ultrafast optoelectronic devices and for high-efficiency photodetectors.

A protocol for the colloidal synthesis of silver nanocubes and fabrication of plasmonic nanoscale patch antennas with sub-10 nm gaps is presented.

الغروية توليف Nanopatch هوائيات للتطبيقات في Plasmonics وبصريات النانو

We present a method for colloidal synthesis of silver nanocubes and the use of these in combination with a smooth gold film, to fabricate plasmonic ...

Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography

Nano-patterns fabricated with extreme ultraviolet (EUV) or electron-beam (E-beam) lithography exhibit unexpected variations in size. This variation has been attributed to statistical fluctuations in the number of photons/electrons arriving at a given nano-region arising from shot-noise (SN). The SN varies inversely to the square root of a number of photons/electrons. For a fixed dosage, the SN is larger in EUV and E-beam lithographies than for traditional (193 nm) optical lithography. Bottom-up and top-down patterning approaches are combined to minimize the effects of shot noise in nano-hole patterning. Specifically, an amino-silane surfactant self-assembles on a silicon wafer that is subsequently spin-coated with a 100 nm film of a PMMA-based E-beam photoresist. Exposure to the E-beam and the subsequent development uncover the underlying surfactant film at the bottoms of the holes. Dipping the wafer in a suspension of negatively charged, citrate-capped, 20 nm gold nanoparticles (GNP) deposits one particle per hole. The exposed positively charged surfactant film in the hole electrostatically funnels the negatively charged nanoparticle to the center of an exposed hole, which permanently fixes the positional registry. Next, by heating near the glass transition temperature of the photoresist polymer, the photoresist film reflows and engulfs the nanoparticles. This process erases the holes affected by SN but leaves the deposited GNPs locked in place by strong electrostatic binding. Treatment with oxygen plasma exposes the GNPs by etching a thin layer of the photoresist. Wet-etching the exposed GNPs with a solution of I2/KI yields uniform holes located at the center of indentations patterned by E-beam lithography. The experiments presented show that the approach reduces the variation in the size of the holes caused by SN from 35% to below 10%. The method extends the patterning limits of transistor contact holes to below 20 nm.

Uniformly sized nanoparticles can remove fluctuations in contact hole dimensions patterned in poly(methyl methacrylate) (PMMA) photoresist films by electron beam (E-beam) lithography. The process involves electrostatic funneling to center and deposit nanoparticles in contact holes, followed by photoresist reflow and plasma- and wet-etching steps.

استخدام الهدى النانوية لإزالة آثار طلقة الضوضاء في ثقوب الاتصال اختلقتها E-شعاع الطباعة الحجرية

Nano-patterns fabricated with extreme ultraviolet (EUV) or electron-beam (E-beam) lithography exhibit unexpected variations in size. This variation has ...

Fabrication of 1-D Photonic Crystal Cavity on a Nanofiber Using Femtosecond Laser-induced Ablation

We present a protocol for fabricating 1-D Photonic Crystal (PhC) cavities on subwavelength-diameter tapered optical fibers, optical nanofibers, using femtosecond laser-induced ablation. We show that thousands of periodic nano-craters are fabricated on an optical nanofiber by irradiating with just a single femtosecond laser pulse. For a typical sample, periodic nano-craters with a period of 350 nm and with diameter gradually varying from 50 - 250 nm over a length of 1 mm are fabricated on a nanofiber with diameter around 450 - 550 nm. A key aspect of such a nanofabrication is that the nanofiber itself acts as a cylindrical lens and focuses the femtosecond laser beam on its shadow surface. Moreover, the single-shot fabrication makes it immune to mechanical instabilities and other fabrication imperfections. Such periodic nano-craters on nanofiber, act as a 1-D PhC and enable strong and broadband reflection while maintaining the high transmission out of the stopband. We also present a method to control the profile of the nano-crater array to fabricate apodized and defect-induced PhC cavities on the nanofiber. The strong confinement of the field, both transverse and longitudinal, in the nanofiber-based PhC cavities and the efficient integration to the fiber networks, may open new possibilities for nanophotonic applications and quantum information science.

We present a protocol for fabricating 1-D photonic crystal cavities on subwavelength diameter silica fibers (optical nanofibers) using femtosecond laser-induced ablation.

تصنيع 1-D الضوئية التجويف البلوري على ألياف نانوية عن طريق الاجتثاث التي يسببها الليزر الفيمتو ثانية

We present a protocol for fabricating 1-D Photonic Crystal (PhC) cavities on subwavelength-diameter tapered optical fibers, optical nanofibers, using ...

Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present an advanced method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics. The proposed process addresses several fabrication issues, including large area processing. Specifically, the protocol describes a process for fabricating ultra-thin color films using an electron beam evaporator for oblique angle deposition of germanium (Ge) and gold (Au) on silicon (Si) substrates.&#160; Film porosity produced by the oblique angle deposition induces color changes in the ultra-thin film. The degree of color change depends on factors such as deposition angle and film thickness. Fabricated samples of the ultra-thin color films showed improved color tunability and color purity. In addition, the measured reflectance of the fabricated samples was converted into chromatic values and analyzed in terms of color. Our ultra-thin film fabricating method is expected to be used for various ultra-thin film applications such as flexible color electrodes, thin film solar cells, and optical filters. Also, the process developed here for analyzing the color of the fabricated samples is broadly useful for studying various color structures.

We present a detailed method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics for optical coatings. The oblique angle deposition technique using an electron beam evaporator allows improved color tunability and purity. Fabricated films of Ge and Au on Si substrates were analyzed by reflectance measurements and color information conversion.

تصنيع الأفلام اللون رقيقة جداً مع الغاية استيعاب وسائل الإعلام استخدام الترسيب زاوية مائلة

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present ...